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誠南工業株式会社は真空装置の設計製作を行っております。

〒559-0011 大阪市住之江区北加賀屋4丁目3番24号
TEL:
06-6682-6788 FAX:06-6682-6750 E-mail:info@seinan-ind.co.jp
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マグネトロンスパッタリングソースMAGNETRON SPUTTERING SAUCE

 誠南工業株式会社では御客様の研究内容などに合わせ、
      マグネトロンスパッタリングソースを設計・製作致しております。

マグネトロンスパッタリングソース SP-2 

●特徴

 ・高真空もしくは超高真空にて使用できます。
 ・強磁性体での使用が可能です。
 ・ターゲット及びバッキングプレートの特殊な加工が不  要です。
 ・DC及びRFで使用できます。
 ・ターゲットサイズ(2"仕様, 4"仕様)。

●カタログ(マグネトロンスパッタリングソース)
◆参考図
◆仕様
  ●オペレーション仕様            ●取付
   最大入力DC   800W             外径        φ87㎜
   最大入力RF   400W             垂直寸法      124㎜
   解放電流     2A以下             本体        φ19㎜パイプ
   操作圧力     0.15~5Pa           冷却水       1/4チューブ
  ●ターゲット形状                 出力コネクタDC    Tyoe N
   基本形状    円板              出力コネクタRF    Tyoe N
   外径      2"               出力ケーブルDC    RG393
   厚み(非磁性)  3・6㎜             出力ケーブルRF    RG393
   厚み(磁性)   1㎜(Fe)            ベーキング温度     85°
  ●マグネット                ●冷却方法
   材質      NdFeB           流量        3L/min
   相対配置    アンバランス         温度       20℃以下
                          圧力       0.3MPa以下
◆データ
  ●条件
    ・Cuターゲット ・電力=200W ・成膜時間=20min
    ・Ar=0.6Pa  ・T-S距離=100㎜ ・基板回転無し
  ●均一性
    Offset19㎜:±10%
  ●成膜レート
    54nm/min
◆オプション
  取り付けポートのサイズに合わせて取付フランジを設計・製作致します。
        ●φ152ICFフランジ       ●スパッタ源152ICFフランジ付

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